Efek Doping Al pada Sifat Optik dan Listrik Lapisan Tipis ZnO Hasil Deposisi dengan DC Sputtering: Sri Yani Purwaningsih, Karyono, Sudjatmoko - Sri Yani Purwaningsih, Sri Yani Purwaningsih; Karyono, Karyono; Sudjatmoko, Sudjatmoko (Jurnal Fisika dan Aplikasinya, 2025)
Telah dilakukan deposisi lapisan tipis ZnO didoping Al (ZnO:Al) pada substrat kaca dengan DC sputtering. Struktur kristal lapisan dikarakterisasi dengan difraksi sinar-X (XRD). Hasil XRD menunjukkan bahwa lapisan tipis ZnO:Al yang terdeposit pada substrat kaca adalah polikristal yang terorientasi dengan sumbu-c tegak lurus pada permukaan substrat. Orientasi kristalografi dipengaruhi oleh suhu substrat dan konsentrasi doping Al2O3. Sifat optik lapisan diukur dengan spektrofotometer UV-Visible pada suhu kamar, hasilnya menunjukkan bahwa transmitansi rata-rata lapisan adalah 85,5% dalam rentang panjang gelombang (350 1100) nm. Indeks bias lapisan yang diperoleh meningkat dengan bertambahnya konsentrasi doping Al2O3 dan menurun pada konsentrasi 3%. Sifat listrik lapisan tipis ZnO:Al ditentukan dengan metode I-V, dan hasilnya menunjukkan bahwa resistivitas listrik sebesar (108± 4) × 10-6 Om telah diperoleh pada konsentrasi doping Al2O3 2%.