Efek Doping Al pada Sifat Optik dan Listrik Lapisan Tipis ZnO Hasil Deposisi dengan DC Sputtering Sri Yani Purwaningsih, Karyono, Sudjatmoko

Abstract

Telah dilakukan deposisi lapisan tipis ZnO didoping Al (ZnO:Al) pada substrat kaca dengan DC sputtering. Struktur kristal lapisan dikarakterisasi dengan difraksi sinar-X (XRD). Hasil XRD menunjukkan bahwa lapisan tipis ZnO:Al yang terdeposit pada substrat kaca adalah polikristal yang terorientasi dengan sumbu-c tegak lurus pada permukaan substrat. Orientasi kristalografi dipengaruhi oleh suhu substrat dan konsentrasi doping Al2O3. Sifat optik lapisan diukur dengan spektrofotometer UV-Visible pada suhu kamar, hasilnya menunjukkan bahwa transmitansi rata-rata lapisan adalah 85,5% dalam rentang panjang gelombang (350 ~ 1100) nm. Indeks bias lapisan yang diperoleh meningkat dengan bertambahnya konsentrasi doping Al2O3 dan menurun pada konsentrasi 3%. Sifat listrik lapisan tipis ZnO:Al ditentukan dengan metode I-V, dan hasilnya menunjukkan bahwa resistivitas listrik sebesar (108± 4) × 10^-6 Om telah diperoleh pada konsentrasi doping Al2O3 2%.